荷蘭政府6日宣布，擴大對半導體設備商艾司摩爾（ASML）的出口管控，該公司生產的1970i以及1980i兩款深紫外線（DUV）浸潤光刻設備都被列入限制名單，除了強化與美國合作管控相關技術的輸出，同時也展現出該國正重新掌握半導體設備政策自主權。

路透指出，華府基於美中科技戰發展，之前單方面宣布對於特定半導體先進製程設備，展開出口限制與管控，由於目前全球最主要的設備商便是荷蘭的ASML，因此這項舉措一度引發華府與阿姆斯特丹之間的摩擦，但荷蘭政府宣布新的出口限制後，凸顯美、荷雙方似已達成一定程度的共識。

報導指出，此次ASML包括1970i、1980i兩款屬於中階產品線的深紫外線（DUV）浸潤光刻設備，成為荷蘭政府新一波管控的目標，該公司則透過聲明表示該措施並未對年度收益或是未來營運造成影響。

在美國政府的壓力之下，荷蘭政府自2023年9月起，就未曾批准ASML向中國客戶輸出旗下包括NXT-2000系列，或是含有更先進技術的半導體製造設備；報導表示ASML的機具，使用雷射協助在晶片上刻畫極為微小的電路，隨著包括中芯國際（SMIC）在內的中國企業，成功藉由多重曝光技術，使用DUV設備產出先進晶片之後，業界對1980i和1970i設備的關注度隨之增加。

ASML執行長福克（Christophe Fouquet）4日在紐約出席活動時，曾表示中國晶片製造商，將能使用現有的設備製造出7奈米、5奈米甚至3奈米的產品，遠遠超乎華府的預期，但他也表示設備仍有其技術限制，雖然製程能夠獲得推進，但良率也會同時大減，難以符合企業營運的需求。